CNI 桌面型UV纳米压印系统

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桌面型UV纳米压印系统,针对大学实验室、研究所微纳米加工研究设计,配备精密的温度控制和低压控制系统,使用方便,性能稳定可靠;同时配合压印模板,可实现各种微纳米图形加工,特征线宽小于20nm;


应用领域

光学器件,显示器,数据存储,生物技术,半导体芯片,化学合成,新型材料等。


技术性能

    • 操作方便:对熟悉半导体工艺的人来说,几小时的培训就能完全掌握设备的使用

    • 未来有升级功能

    • 客户可根据需求定制设备功能

    • 用户通过触摸屏来程序化控制处理过程;

    • 用户可自主设定工艺参数;

    • 真空吸附模板和Wafer

    • 具备UV固化功能

    • Wafer尺寸:4英寸;

    • 压印尺寸:2英寸;

    • 压印压力:0~25PSI(可升级到100PSI)
    • 模板尺寸:5×0.09英寸
    • 典型压印时间:小于5分钟/wafer



产品品牌
NIL Technology
产品型号
CNI v2.1
产地类别
进口
厂商性质
代理商