巨力光电

kSA Emissometer 石墨盘发射率测量系统:采用双传感器设计，可在石墨盘旋转同时进行整个石墨盘的漫反射率、镜面反射率及发射率二维分布Mapping测量。物体的发射率与物体的表面状态(包括物体表面温度、表面粗糙度、面形以及表面氧化层、涂层、缺陷、残留物、表面杂质等)有关。所以，通过对石墨盘各个点发射率的测量可以直接反映出石墨盘表面肉眼难以观测到的表面细节，同时基于黑体辐射原理进一步评估石

kSA 400 RHEED图形分析系统:通过对RHEED入射电子能量的控制，用*分辨、*速CCD直接采集来自样品对电子束的衍射图像，并用专业软件系统对其进行图像处理和数据分析， 自动计算测量晶格间距、共振长度和振动强度等参数，同时通过衍射条纹的强度震荡曲线检测薄膜沉积速率等信息。

kSA MOS Ultra Scan离线薄膜应力测量系统：对薄膜的应力、表面曲率和翘曲进行准确的测量，还可对二维应力Mapping成像统计分析；同时准确测量应力、曲率随温度变化的关系。

kSA BandiT 半导体实时温度测量系统: 半导体薄膜外延生长过程中非接触式、实时原位Wafer温度监测！

电化学反应可视化共聚焦系统ECCS B320：能够捕捉充放电过程中亮度的微小变化，同时，能够对阴极和阳极横截面中的反应分布进行定量分析。